35年來,我們一直在為光學(xué)涂層和等離子體蝕刻行業(yè)開發(fā)現(xiàn)場監(jiān)測和控制儀器。Intellemetrics推出了一系列晶圓視覺系統(tǒng),專門設(shè)計用于在負載鎖定真空蝕刻和沉積室內(nèi)觀察圖案化晶圓,以檢查是否已加載正確的晶圓,并確認相對于掩模圖案的對齊和放置。圖像分辨率取決于工作距離和視場,但通常在5mm的工作距離(適用于ICP蝕刻和沉積室)和600mm視場下可以獲得7μm的分辨率。
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