美國(guó)aBeam Technologies提供多種產(chǎn)品來(lái)改進(jìn)半導(dǎo)體制造和納米制造。我們的產(chǎn)品用于模擬和優(yōu)化納米光刻、計(jì)量、掩模和缺陷檢測(cè)。它們還用于半導(dǎo)體設(shè)備的設(shè)計(jì)和優(yōu)化。此外，該公司還銷(xiāo)售電子束圖案發(fā)生器，并提供頂級(jí)納米制造。我們的客戶是半導(dǎo)體工廠、設(shè)備制造商以及研發(fā)實(shí)驗(yàn)室和大學(xué)。aBeam Technologies總部位于美國(guó)加利福尼亞州。半導(dǎo)體設(shè)備價(jià)格昂貴。有機(jī)會(huì)提高工具質(zhì)量、提高過(guò)程質(zhì)量或?yàn)橄乱淮娱L(zhǎng)其生命周期，使我們的軟件獲得了更大的回報(bào)。
aBeam Technologies的研究人員與勞倫斯伯克利國(guó)家實(shí)驗(yàn)室和阿貢國(guó)家實(shí)驗(yàn)室合作，開(kāi)發(fā)了一種制造線寬降至1.5納米的測(cè)試圖案的技術(shù)。設(shè)計(jì)的圖案包含數(shù)千條線條，線條寬度準(zhǔn)確設(shè)計(jì)；這些線以這樣一種方式組合，即線寬的分布在任何位置看起來(lái)都是隨機(jī)的。這種偽隨機(jī)測(cè)試模式允許在納米氣象系統(tǒng)的整個(gè)動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)對(duì)其進(jìn)行表征。
ABeam Technologies主要產(chǎn)品：
軟件
模式生成器
光學(xué)平臺(tái)
光束消隱器
光子集成器
主要型號(hào)：
TRAVIT EBL、DISPLACE、TEMPTATION、SCATT、TRAVIT Dry Etch、XeDraw、XPG-2、XENOS XeMove、XeSwitch
津公網(wǎng)安備12010102000950號(hào)